Contitolari:

Università degli Studi di Padova

Inventori:

Dal Maschio Marco; Archetti Anna

Parole chiavi: Microscopia, ottiche piatte, generazione luce strutturata, reticolo 3D Bessel, fotonica

Numero priorita: IT102023000001299

Abstract:

L'invenzione riguarda un metodo per la formazione di un reticolo di fasci quasi-Bessel con un singolo elemento ottico, piatto e leggero. Questo sistema ottico si basa su una correzione spaziale della fase della luce per generare una serie di fasci di luce quasi non-diffrattivi.
Ogni fascio può essere prodotto con proprietà indipendenti dagli altri e in posizioni  arbitrarie.

Descrizione:

Le configurazioni attuali di generatori di BB presentano alcuni limiti superati dal metodo attuale, in grado di generare con un solo elemento ottico reticoli di fasci di Bessel secondo una geometria desiderata.
L’invenzione presenta un fascio di onde piane in entrata e una superfice capace di modellare tale fascio per rendere un reticolo di fasci quasi-Bessel in uscita.
Inoltre, permette di produrre un numero di fasci indipendente dall’apertura numerica del singolo fascio. Infine, ogni fascio nel reticolo può essere generato con proprietà geometriche indipendenti (posizione focale e trasversale e larghezza longitudinale e trasversale).
La scoperta  apre nuove prospettive in applicazioni (e.g. lavorazione di materiali, telecomunicazioni) che richiedono l'uso di luce strutturata con fasci multipli con maggiore profondità di fuoco e ridotta larghezza del fascio rispetto a soluzioni basate su ottiche convenzionali.
TRL 4

Vantaggi:

• Disaccoppiamento della profondità di fuoco dall’estensione trasversale;
• Possibilità di integrare di un unico elemento tutte le manipolazioni ottiche;
• Possibilità di produrre un reticolo di fasci Bessel senza strutturazione né mascherazione della luce in entrata.

Applicazioni:

• Sistemi per lo screening di farmaci ad alto contenuto e ad alta produttività in vivo;
• Selezionatori di particelle basati sulla luce;
• Sistemi di microscopia elettronica a scansione multibeam;
• Sistemi per litografia parallela;
• Sistemi di imaging a fluorescenza.